三星前员工出庭，长鑫存储招募与技术取得细节曝光

曾先后任职三星和长鑫存储的全某，8月25日在首尔中央地方法院作证称，朴姓工程师的在职证明把入职日期写为2016年10月26日，但他在一个月前已经出现在长鑫存储的工作现场。韩国检方指控朴某于当年9月带走三星18纳米DRAM工艺资料。

谈到早期招聘时，全某称，长鑫存储韩国团队把仍在职的韩国半导体工程师称为“A级”人选。团队向负责招聘的金某推荐后，只要没有特殊问题，便会索取履历并译成中文。像朴某这样有三星18纳米经验、做过器件和工艺整合的博士级工程师，“不会有人反对录用”。

按照检方公布的调查结果，朴某离开三星前连续抄写四天，把18纳米DRAM的PRP（工艺配方计划）记入公司配发的员工笔记本。12页手写内容涉及约600道工序，包括工序名称、设备和条件值。当时三星对纸质文件外带的识别能力有限。调查人员后来以笔迹鉴定锁定朴某；韩国媒体称，他目前受到国际刑警组织红色通报。

2018年，长鑫存储聘请另一名三星前高管主持第二阶段开发。检方称，团队此后按照当地生产线的设备、材料和参数调整相关工艺。检方提交的材料显示，两套资料的匹配率由56.7%升至98.2%；这一数字尚待法庭审查。

韩国检方去年12月公布案情时称，涉案人员以三星离职前年薪的两至四倍招揽工程师，开发负责人所得报酬最高达到30亿韩元。为避开两至三年的竞业限制，部分受聘者先进入一家名义上的化肥公司，随后再转往长鑫存储。团队内部还曾要求成员假定“国情院就在身边”，若遭禁止出境或被捕，便发送四个心形符号示警。

全某8月11日首次出庭时称，长鑫存储2016年成立之初还没有研究机构和生产设施，公司管理层已经准备取得三星PRP，用于开发DRAM。检方估算，三星研发18纳米工艺耗时五年，投入1.6万亿韩元。管理层是否从公司成立之初便参与相关计划，仍是本轮审理需要查明的问题。

全某当天也说，他不知道韩国团队其他成员如何理解朴某交来的资料：是从三星抄写，还是凭记忆重新整理。这项证词没有回答接收资料者是否明知其来源。

首尔中央地方法院今年4月已在另一案件中判处全某七年监禁。该案一审判决认定，涉案PRP属于韩国法律保护的国家核心技术，全某参与非法取得和使用有关资料。检方先后起诉十名曾参与长鑫存储开发的人员，长鑫存储公司本身并未因此被法院定罪。

水原高等法院2025年5月审理过另一宗存储芯片技术案。一名中国籍SK海力士前员工在2022年转职华为前，打印约4000页半导体制造问题解决资料。法院认定有关资料属于韩国国家核心技术和商业秘密，二审判处其五年监禁，并处罚金3000万韩元；一审刑期原为一年半。

韩国最高法院2023年还维持了三星显示曲面屏贴合技术外泄案的有罪判决。设备商Toptec前负责人及员工把三星提供的技术规格和图纸转入另设公司，随后向两家中国企业出售部分文件，并依照图纸制造设备。前负责人被判三年监禁，两名高管各获刑两年，公司被罚款1亿韩元。

水原案已有二审判决，Toptec案也已由最高法院定案；长鑫存储相关案件尚无终局判决。首尔中央地方法院后续将审查全某的证词，能否与用工记录、通信资料和工艺文件相互印证。

资料来源：首尔中央地方法院公开庭审报道、韩国检方调查结果，以及SBS、《韩国经济日报》《首尔经济日报》和韩联社的案件报道。文中有关朴某抄写资料、长鑫存储招聘与工艺匹配率的内容均按检方指控或证人证词表述；一审判决仅涉及已受审被告，不代表长鑫存储公司被定罪。资料截至2026年8月26日。